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【華東新建】盛美半導體研發(fā)和工藝測試平臺建設項目
標簽： 上海機械電子電器項目環(huán)境影響評價項目
發(fā)布時間 所屬行業(yè) 項目性質 地區(qū)
2024-04-11 機械電子電器 新建 上海
本項目為改擴建項目。本項目建成后，原有單片清洗機研發(fā)的研發(fā)測試規(guī)模由120批次/年調整為60批次/年，新增單片薄片清洗設備研發(fā)15批次/年、前段槽式清洗設備研發(fā)15批次/年、后段單片晶圓回收清洗設備研發(fā)15批次/年、槽式Solvent清洗設備研發(fā)15批次/年、PVD物理氣相沉積設備研發(fā)18批次/年、光刻機測試54批次/年、CMP設備測試18批次/年、離子注入設備測試18批次/年等；同時將原有ECP設備研發(fā)鍍銅測試規(guī)模由120批次/年調整為40批次/年，增加鍍鈷、鍍鎳、鍍錫、鍍銀測試工序各20批次/年。本項目建成后，全廠生產規(guī)模不變，研發(fā)內容及規(guī)模有調整，但調整后仍均為小試規(guī)模。
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