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本項(xiàng)目為改擴(kuò)建項(xiàng)目。本項(xiàng)目建成后，原有單片清洗機(jī)研發(fā)的研發(fā)測(cè)試規(guī)模由120批次/年調(diào)整為60批次/年，新增單片薄片清洗設(shè)備研發(fā)15批次/年、前段槽式清洗設(shè)備研發(fā)15批次/年、后段單片晶圓回收清洗設(shè)備研發(fā)15批次/年、槽式Solvent清洗設(shè)備研發(fā)15批次/年、PVD物理氣相沉積設(shè)備研發(fā)18批次/年、光刻機(jī)測(cè)試54批次/年、CMP設(shè)備測(cè)試18批次/年、離子注入設(shè)備測(cè)試18批次/年等；同時(shí)將原有ECP設(shè)備研發(fā)鍍銅測(cè)試規(guī)模由120批次/年調(diào)整為40批次/年，增加鍍鈷、鍍鎳、鍍錫、鍍銀測(cè)試工序各20批次/年。本項(xiàng)目建成后，全廠生產(chǎn)規(guī)模不變，研發(fā)內(nèi)容及規(guī)模有調(diào)整，但調(diào)整后仍均為小試規(guī)模。

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